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题名: 氟离子辐照对聚四氟乙烯基底上金属薄膜附着力的影响
作者: 刘正民; 杨莹
收录类别: CSCD
出版日期: 1991-04-02
刊名: 应用科学学报
期号: 1, 页码:43-48
中文摘要: 用6 MeV的氟离子对淀积在聚四氟乙烯基底上的In、Sn、Al、Cu、Pd和Ni等金属薄膜进行了一定剂量范围的辐照,测定了发生增强附着效应的阈剂量值.结果表明,阈剂量的大小和膜材料的弹性模量及电子阻止本领有关.据此提出了一个增强附着效应起因于膜内应力变化的假设.应用这一假设解释了一些与增强附着效应相关的现象.
关键词: 薄膜 ; 增强附着 ; 阈剂量 ; 应力
作者部门: 兰州大学 ; 兰州大学
语种: 中文
CSCD记录号: CSCD:159073
IR记录号: CNKI:0010501
Citation statistics:
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.lzu.edu.cn/handle/262010/130551
Appears in Collections:核科学与技术学院_期刊论文

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刘正民,杨莹. 氟离子辐照对聚四氟乙烯基底上金属薄膜附着力的影响[J]. 应用科学学报,1991(1):43-48.
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